光刻机是生产高端芯片的核心设备之一，我国芯片制造技术之所以一直被三星、台积电甩在身后，原因之一就在于缺少高端光刻机。其实，中芯国际早在2018年就向荷兰ASML下单了极紫外光刻机。按照合同，该设备应该在2019年交付，但由于美国从中作梗，荷兰一直不批准该设备出口，所以中芯国际至今没有收到货。

当然，中国芯片产业落后并非只体现在光刻机短缺这一个方面，事实上，生产芯片的许多重要材料，国内芯片厂商也都需要进口采购，光刻胶便是其中之一。该材料几乎被日本厂商垄断，即便中国芯片产业链有企业生产出光刻机，但如果没有光刻胶，也于事无补。

不过最近一段时间，中国芯片产业链一直都有好消息传出。早在今年4月，南大光电曾购入193纳米沉浸式光刻机，之后，南大光电便在该设备基础上进行光刻胶产品的开发，如今三个月时间过去，这家中国公司也终于迎来技术突破。据知情人士透露，南大光电的ArF光刻胶正在按计划进行客户测试，不久后或实现量产。

值得一提的是，南大光电曾发布公告称，其子公司收到地方政府的1584万补贴，专门用来研究ArF光刻胶的开发与产业化，可见地方政府对芯片产业的支持态度。按照之前大光电的规划，公司ArF光刻胶项目总投资高达15.6亿，年产量将达到25吨，未来实现自给自足，甚至是出口都没有任何问题。

当然，大光电并不会只建立生产中心。在拿到地方政府投资后，公司需要建立的是完整配套的国产光胶产业链基地。不仅包含开发、生产、销售平台，而且还有检测机构，可以为当地带来众多工作岗位。

而对于国内芯片产业而言，随着产业链完善，大光电将逐渐把握住市场发展方向和速度，并且适应新技术和新材料的更新换代和生产，为国内芯片产业链发展提供必要的材料供应保障。你对光刻胶产品还有多少了解？不妨谈谈你的观点。

文章来源：《现代制造技术与装备》 网址: http://www.xdzzjsyzb.cn/zonghexinwen/2021/0512/867.html